強化模擬題一：
1.上下牙列不接觸，下頜處於安靜狀態時的位置稱爲(B)。
A.正中位
B.息止頜位
C.息止間隙
D.頜間距離
E.垂直距離
2.微笑時的脣高線位於上頜中切牙的(D)。
A.切緣
B.切1/3
C.切1/2
D.切2/3
E.齦緣
3.一患者戴用全口義齒一週，主訴咬合疼痛，定位不明確。檢查發現：粘膜未見明顯紅腫或潰瘍部位，基託邊緣伸展合適，做正中合咬合時，上頜義齒有較明顯的扭轉。義齒存在問題是(E)。
A.基託不密合
B.基託翹動
C.正中早接觸
D.前伸干擾
E.正中關係有誤
4.關於取印模時邊緣整塑，錯誤的是(C)。
A.爲了使義齒有良好的邊緣封閉
B.可用印模膏做
C.製作個別托盤後不需要
D.可由醫師牽拉患者面頰部
E.可以分區做
5.製作個加別托盤適用於以下情況，除了(E)。
A.所有取無牙頜印模的情況
B.無合適成品托盤時
C.牙槽嵴低平，兩側吸收不一致
D.牙槽嵴過於豐滿
E.取研究模型時
6.在石膏模型上製作後堤區時，最深處的深度爲(B)。
A.<0.5mm
B.1~1.5mm
C.2~3mm
D.4~5mm
E.6~10mm
7.雙側上頜結節明顯突向頰側，倒凹大者，全口義齒修復時要(D)。
A.患者先自行按摩，使突出骨質吸收，去除倒凹
B.減小此處基託伸展範圍
C.基託組織面緩衝
D.手術去除突出骨質
E.使義齒旋轉就位
8.一無牙頜患者，全口義齒戴用十年。檢查發現：舊義齒人工牙磨耗嚴重，垂直距離低，基託不密合，下頜前庭粘膜反折處及牙槽嵴舌側粘膜處小潰瘍。處理方法是(E)。
A.自凝樹脂加高舊義齒人工牙合面
B.舊義齒基託組織面重襯
C.舊義齒基託邊緣緩衝
D.重新修復，取印模
E.停戴舊義齒一週後重新修復
9.上頜後部牙槽嵴骨吸收的方向爲(C)。
A.向上、向後
B.向上、向外
C.向上、向內
D.向後、向外
E.向上、向前
10.確定頜位關係是指(D)。
A.恢復面部適宜的垂直距離
B.確定正確的頜間距離
C.恢復面部生理形態
D.恢復髁突的生理後位和麪部下1/3高度
E.糾正下頜習慣性前伸
11.患者戴用全口義齒一週後，自訴義齒鬆動，易脫落。何時需要重襯(D)。
A.基託邊緣過度伸展
B.基託邊緣過短
C.咬合不平衡
D.基託組織面不密合或邊緣封閉差
E.上頜隆突形成支點
12.一戴用全口義齒患者，在做側方咬合時，平衡側義齒基託翹動、脫落，其最可能的原因是(B)。
A.正中 不平衡
B.側方 不平衡
C.前伸 不平衡
D.垂直距離過高
E.義齒固位差
13.義齒初戴時出現哪一情況需要返工重作?(B)。
A.就位困難
B.下頜偏向一側
C.發音不清
D.粘膜壓痛
E.基託邊緣過長
14.患者戴用全口義齒一週後，自訴義齒鬆動，易脫落。如果病人說明僅在大張口時易掉，應該檢查(A)。
A.基託邊緣伸展
B.義齒磨光面形態
C.前牙覆合、覆蓋
D.側方平衡
E.正中平衡
15.與大氣壓力的產生關係最密切的是(C)。
A.基託面積
B.牙槽嵴高度
C.邊緣封閉
D.後堤區寬度
E.粘膜厚度
16.上頜中切牙的脣面通常位於切牙乳突中點前(C)。
A.1~4 mm
B.5~7 mm
C.8~10 mm
D.11~15 mm
E.16~20mm
17.全口義齒的前牙要排列成淺覆、淺覆蓋的目的是爲了(C)。
A.美觀
B.排牙方便
C.易於取得前伸 平衡
D.發音清晰
E.與天然牙一致
18.灌注無牙頜石膏模型時，其厚度不應少於(E)。
A.2m
B.4mm
C.6mm
D.8mm
E.10mm
19.以下排牙措施中正確的是(D)。
A.上頜後牙頰尖位於牙槽嵴頂上
B.上頜後牙頰尖位於牙槽嵴舌側
C.上頜後牙舌尖位於牙槽嵴舌側
D.上頜後牙舌尖位於牙槽嵴頂上
E.上頜後牙舌尖位於牙槽嵴頰側
20.以下措施可提高全口義齒固位和穩定，除了(A)。
A.儘量擴大基託面積
B.準確的印模
C.有利的磨光面形態
D.合理的排牙
E.指導患者正確使用義齒
21.一戴用全口義齒的患者，主訴經常咬舌，無其它不適。檢查發現：兩側後牙 面低，排列偏舌側。最好的處理方法是(E)。
A.自凝樹脂加高下後牙面
B.調磨下後牙舌面
C.磨低下後牙舌尖
D.磨低上後牙舌尖
E.重新制作義齒，矯正後牙位置
22.一患者全口義齒戴牙一週後，感覺尚好，僅在上頜齶中縫處有輕度壓痛。最好的處理方法是(D)。
A.重新制作
B.重襯
C.重新排牙
D.局部緩衝
E.停戴一週
23.解剖式人工牙的牙尖斜度爲(C)。
A.45°
B.40°
C.33°
D.20°
E.0°
24.一患者戴用全口義齒一週，主訴咀嚼費力，粘膜壓痛，面部酸脹。最可能的原因是(D)。
A.戴用時間短，不適應
B.咬合不平衡
C.緩衝區未緩衝
D.垂直距離過高
E.基託不密合
25.56歲無牙頜患者，義齒戴用7年，自覺咀嚼不利，面顯蒼老。其原因是(B)。
A.垂直距離過高
B.垂直距離過低
C.咬合不平衡
D.下頜前伸
E.義齒固位差
26.牙列缺失者，下頜處於正中關係位時，上下牙槽頂之間的距離稱爲(D)。
A.正中 位
B.息止頜位
C.息止間隙
D.頜間距離
E.垂直距離
27.義齒初戴時出現疼痛的原因不包括(B)。
A.組織面有塑料小瘤
B.垂直距離過低
C.骨突處緩衝不夠
D.基託邊緣過長
E.咬合不平衡
28.在 堤上畫出的口角線爲(B)。
A.上頜側切牙遠中標誌線
B.上頜尖牙遠中標誌線
C.下頜尖牙遠中標誌線
D.上頜第一前磨牙遠中標誌線
E.下頜第一前磨牙遠中標誌線
29.恢復適當的垂直距離的作用不包括(A)。
A.避免下頜前伸
B.面部比例和諧
C.肌張力正常
D.發揮最大咀嚼效能
E.有益於顳下頜關節健康
30.基託邊緣需緩衝的是(E)。
A.正中關係錯
B.義齒固位差
C.前牙咬切功能差
D.下頜隆突處壓痛
E.說話及大開口時義齒脫落
31.全口義齒人工後牙的近遠中總長度應等於該側(B)。
A.尖牙近中面至磨牙後墊前緣的距離
B.尖牙遠中面至磨牙後墊前緣的距離
C.尖牙遠中面至磨牙後墊1/3處的距離
D.尖牙近中面至磨牙後墊1/2的距離
E.尖牙近中面至磨牙後墊後緣的距離
32.做脣頰溝加深術的目的是(E)。
A.降低脣郟繫帶附着點
B.增大垂直距離
C.增加頜間距離
D.減小頜間距離
E.加大基託伸展範圍
33.與全口義齒穩定無關的是(D)。
A.咬合關係
B.人工牙排列位置
C.合平衡
D.基託密合
E.磨光面形態
34.與吸附力關係最密切的因素是(A)。
A.基託組織面與粘膜的`密合程度
B.唾液的質和量
C.是否用軟襯材料
D.是否戴過舊義齒
E.基託的厚度
35.一患者全口義齒戴牙一週後，感覺尚好，僅在上頜齶中縫處有輕度壓痛。最可能的原因是(A)。
A.上頜齶中縫緩衝不夠
B.咀嚼效率不高
C.戴用時間不長
D.義齒性口炎
E.基託不密合
36.垂直距離通常指(D)。
A.眼裂至口角的距離
B.鼻底至口角的距離
C.口角至頦底的距離
D.鼻底至頦底的距離
E.上下牙槽嵴頂間的距離
37.全口義齒的固位力不包括(D)。
A.吸附力
B.附着力
C.粘着力
D.摩擦力
E.大氣壓力
38.一患者戴用全口義齒一週，主訴左側後牙經常咬腮，無其他不適。處理方法是(B)。
A.調磨左上後牙頰面。
B.調磨左上後牙頰尖頰斜面。
C.磨低左上後牙頰尖
D.磨低左下後牙頰尖
E.磨低右下後牙頰尖
39.人工牙排列要有平衡 的主要原因是(C)。
A.增大接觸面積
B.提高咀嚼效率高
C.有利於義齒穩定
D.使義齒美觀
E.糾正偏咀嚼習慣
40.患者戴用全口義齒一週後，自訴義齒鬆動，易脫落。檢查診斷時應先檢查(C)。
A.咬合是否穩定
B.先讓患者吃一樣東西試試
C.固位力大小
D.讓病人做大張口
E.基託邊緣伸展
41.非解剖式人工牙的牙尖斜度爲(E)。
A.45°
B.40°
C.33°
D.20°
E.0°
42.位於口腔前庭內相當於原中切牙近中交界線的延長線上的是(B)。
A.舌繫帶
B.脣繫帶
C.頰繫帶
D.口輪匝肌的起始部
E.上頜義齒切跡
43.基託組織面需重襯的是(B)。
A.正中關係錯
B.義齒固位差
C.前牙咬切功能差
D.下頜隆突處壓痛
E.說話及大開口時義齒脫落
44.屬於副承託區(D)。
A.上頜牙槽嵴頂
B.磨牙後墊
C.切牙乳突
D.頰側前庭
E.頰繫帶
45.避免上頜義齒基託縱裂的措施中不正確的是(E)。
A.齶側基託中加金屬網或金屬基託
B.人工後牙排列近牙槽嵴頂
C.減小前牙覆合
D.獲得平衡合
E.加厚義齒基託
46.患者戴用全口義齒一月，複查時自述戴牙後一直感覺咀嚼無力，面部痠痛。原因可能爲(C)
A.患者身體不適
B.人工牙爲塑料牙
C.垂直距離過低
D.關節功能紊亂
E. 關係有誤
47.下頜後部牙槽嵴骨吸收的方向爲(B)。
A.向下、向後
B.向下、向外
C.向下、向內
D.向後、向外
E.向下、向前
48.上頜義齒基託不需要緩衝的部位是(D)。
A.切牙乳突
B.顴突區
C.齶中縫
D.顫動線
E.上頜隆突
49.無牙頜的印模方法中錯誤的是(A)。
A.用印模膏取一次性印模
B.用印模膏取初印模
C.用印模膏做個別托盤
D.用舊義齒做個別托盤
E.用藻酸鹽印模材取終印模
50.全口義齒試排牙時發現，在口內做正中合咬合時，只有兩側上下第二磨牙接觸，其餘牙齒均開合。處理辦法是(E)。
A.降低第二磨牙
B.擡高其他人工牙
C.加大補償曲線
D.減小補償曲線
E.重取頜位關係記錄
51.不屬於邊緣封閉區的是(D)。
A.上頜後堤區
B.下頜磨牙後墊區
C.牙槽嵴粘膜與脣頰粘膜的反折處
D.能承擔部分咀嚼壓力的區域
E.能阻止空氣進入基託與所覆蓋組織之間的區域
52.前牙區 堤平面應平行於(B)。
A.上脣
B.瞳孔連線
C.鼻底
D.鼻翼耳屏線
E.眶耳平面
53.選擇上頜無牙頜印模托盤的標準包括(D)。
A.中部蓋過齶小凹後2mm
B.低於脣頰粘膜皺襞2mm
C.高於脣頰粘膜皺襞2mm
D.A+B
E.A+C
